Hellma氟化鈣晶體CaF2光學材料
Hellma Materials CaF2多年來一直被用作半導體生產(chǎn)微光刻的光學關鍵材料。
CaF2 是投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF2 獨特的光學特性可實現(xiàn)各種高級應用。
技術優(yōu)勢:
曹雪莉
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Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨*的光學特性:
從深紫外到紅外(130nm至8μm)的高寬帶透射率
低折射率 (nd = 1.43384)
低光譜色散 (vd = 95.23)
準分子激光光學器件(157nm、193nm、248nm)具有出色的激光耐久性
對高能顆粒和輻射的合格抵抗力
直徑可達420mm
應用領域:
紅外光學元件
用于天文儀器的光學元件
天基光學器件
顯微鏡光學元件
光譜光學
紫外光學
激光窗口
準分子激光光學
微光刻光學
沈陽漢達森YYDS曹
Hellma氟化鈣晶體CaF2光學材料