Bronkhorst質(zhì)量流量計(jì)F-132MI
薛鈞
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最小流量范圍:0.3-15 ln/min;
最大流量范圍:5-250 ln/min;
壓力:400bar;
半導(dǎo)體和LED照明產(chǎn)業(yè):
最初,熱式質(zhì)量流量計(jì)和控制器是在1970年代為半導(dǎo)體制造過程中的氣相沉積而開發(fā)的。由于市場(chǎng)需求以及在氣體、液體和蒸汽輸送方面引進(jìn)新的更好產(chǎn)品的需要,Bronkhorst稱為半導(dǎo)體、平板顯示器和LED行業(yè)的主要供應(yīng)商。針對(duì)化學(xué)氣相沉積(CVD)、平板顯示器噴涂(FPD)和原子層沉積(ALD)工藝,Bronkhorst可為直接液體注入系統(tǒng)提供金屬密封流量?jī)x表。
Bronkhorst部分型號(hào)示例:
Bronkhorst F-231M-ABD-33-V
Bronkhorst F-201EV-ABD-22-V HI-TEC
Bronkhorst F-206AI-AAD-55-V
Bronkhorst F-203AV-1M0-AAD-55-V
Bronkhorst F-201CV-20K-BAD-00-V HI-TEC
Bronkhorst F-201CB-20K-AAD-00-Z
Bronkhorst F-203AV-M50-AGD-55-V
Bronkhorst F-203AI-1M0-AGD-44-V
Bronkhorst F-110C-002-AAD-11-V
Bronkhorst F-203AI-M50-AGD-44-V
Bronkhorst F-201CV-1K0-RGD-88-E
Bronkhorst F-203AI-1M0-AGD-55-V
應(yīng)用案例:
切割(激光)前在晶片上沉積保護(hù)層
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)
原子層沉積(ALD)
超臨界流體定量給料和控制(如超臨界二氧化碳清洗)
平板顯示器(FPD)噴涂
在FOUP卸載模塊應(yīng)用質(zhì)量流量控制器進(jìn)行氮?dú)獯祾撸?/div>
目前先進(jìn)的技術(shù)要求在生產(chǎn)過程中對(duì)氣體進(jìn)行更好的流量控制,以提高產(chǎn)量并降低這些氣體的使用成本。
超臨界氣體測(cè)量與控制:
當(dāng)流體例如二氧化碳(CO2)在氣液兩相臨界區(qū)域處,難以測(cè)量它們的流量。建議使用科里奧利質(zhì)量流量計(jì)。
Bronkhorst質(zhì)量流量計(jì)F-132MI