OBLF 火花光譜儀

OBLF的光譜儀型號(hào)因需要確定的矩陣和元素的數(shù)量而異。OBLF所有的系統(tǒng)都具有出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性（真空光學(xué)）、低運(yùn)營(yíng)成本（獲得專利的火花架，氬氣消耗量最少）和低維護(hù)需求（例如火花架的自動(dòng)吹掃）。OBLF的系統(tǒng)提供的分析通道數(shù)量是專門為滿足客戶要求而量身定制的。OBLF每個(gè)設(shè)備都使用經(jīng)過認(rèn)證的參考材料單獨(dú)校準(zhǔn)。

OBLF

MVS 1000

OBLFMVS 1000 適用于多種分析要求，例如多矩陣應(yīng)用。OBLFMVS 1000經(jīng)濟(jì)高效的設(shè)備始終通過傳感器線檢測(cè)完整的發(fā)射光譜。OBLFMVS 1000大量的元素通道和擴(kuò)展很容易實(shí)現(xiàn)。

 

OBLF

GS1000-II

OBLF

GS1000-II這種緊湊型光譜儀分析了一種金屬基體的所有相關(guān)元素。OBLF

GS1000-II使用光電倍增管作為檢測(cè)器。

 

OBLF

可視化操作系統(tǒng)

OBLFVeOS 適用于多種分析要求，例如多矩陣應(yīng)用。OBLF

可視化操作系統(tǒng)設(shè)備始終通過傳感器線檢測(cè)完整的發(fā)射光譜。OBLF

可視化操作系統(tǒng)大量的元素通道和擴(kuò)展很容易實(shí)現(xiàn)。

 

OBLF

QSN 750-II

OBLFQSN 750-II 是 OBLFGS 1000-II 的多矩陣版本

 

OBLF

QSG 750-II

OBLFQSG 750-II 使用與OBLF QSN 750-II 相同的光學(xué)系統(tǒng)，但配備了OBLF GISS 技術(shù)。

 

OBLF

雙電極系統(tǒng)

盡可能縮短分析時(shí)間并提高采樣率。一次測(cè)量中有兩個(gè)燃燒點(diǎn)。