EMG電路板EVK2.11.2傳感器與光源之間可達(dá)4米
特征優(yōu)點(diǎn):
高頻率光保護(hù)環(huán)境光。
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參考式測量原則,有效地補(bǔ)償污染。
準(zhǔn)確可靠的測量精度不受板帶高度波動的影響。
安裝簡便快捷,調(diào)試時間短(安裝空間小)
傳感器與光源之間可達(dá)4米。
可靠且易于操作。
可用于較差的生產(chǎn)環(huán)境(如酸洗線、冷軋機(jī)等)
EMG電路板EVK2.11.2是將EVK邊緣傳感器定位裝置和中EVM傳感器定位裝置應(yīng)用于中的非接觸式帶鋼邊緣檢測和帶鋼檢測。此裝置具有很高的可靠性,且無外界干擾,能檢測到板帶對邊、對中時板帶位置的變化。
該定位裝置由電機(jī)驅(qū)動,配有高頻交變光傳感器,用于檢測板帶邊緣位置,并能抑制外界光干擾。由于板寬變化或板帶左右偏移,可由傳感器檢測到邊部移動。
高級控制電路驅(qū)動直流電機(jī)移動LS13/LS14或執(zhí)行器,以確保傳感器的探測范圍總是被板帶覆蓋一半。
參考測量學(xué)原理可對光源的污染進(jìn)行補(bǔ)償。其中包括測量系統(tǒng)上的測量傳感器與光源上的基準(zhǔn)傳感器的光點(diǎn)重合。該方法是一種用于檢測板邊位置變化的傳感器,它用于檢測光斑的亮度變化。
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