瑞典Camfil過濾器在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用

　　瑞典Camfil過濾器在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用

高偉 QQ：2853369888   手機(jī)：17710704891 電話：010-64714988-215 傳真：010-64714988-668 郵件：tk5@handelsen.cn

　　為先進(jìn)半導(dǎo)體制造提供全面解決方案，提高您的工藝良率。

　　在半導(dǎo)體工廠中，微污染會帶來嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)?？奠碃枮榘雽?dǎo)體行業(yè)提供廣泛的解決方案，包括灰塵預(yù)濾器、HEPA和ULPA過濾器以及AMC控制解決方案等，可降低潔凈室顆粒和氣態(tài)化學(xué)污染物的濃度：將灰塵降至ISO 1級水平 ，將AMC降至ppb級別以下。

　　在潔凈室過濾中，AMC過濾和控制尤為重要

　　氣態(tài)化學(xué)污染物(AMC)對小尺寸的半導(dǎo)體制造有著特殊的挑戰(zhàn)。酸性氣體、堿性氣體、有機(jī)物、難熔性有機(jī)物和摻雜性有機(jī)物之間產(chǎn)生不必要的化學(xué)反應(yīng)，影響晶圓表面和工藝設(shè)備的光學(xué)器件，從而在芯片生產(chǎn)過程中產(chǎn)生不良品，降低機(jī)臺設(shè)備的生產(chǎn)效率。

　　AMC在關(guān)鍵潔凈室制造工藝中日益發(fā)揮著重要的作用。隨著工藝要求越來越高，器件尺寸縮小，工藝控制面臨巨大壓力。晶圓可能要在工廠內(nèi)存放整整一個月的時間，在最終產(chǎn)品出貨之前經(jīng)歷數(shù)百個工藝制程。在該過程中任何微小的污染都會對晶圓廠的總良率產(chǎn)生巨大影響。

　　另一個挑戰(zhàn)在于，隨著大尺寸晶圓的普及，單個晶圓的成本增加，針對機(jī)臺控制納米級顆粒物和AMC污染的需求也相應(yīng)增加。此外，在EUV機(jī)臺和多重曝光DUV光刻機(jī)中使用的無缺陷掩模的成本上升，給廠務(wù)端的系統(tǒng)控制以及量測機(jī)臺和掩膜版存儲等微環(huán)境的污染控制系統(tǒng)帶來了壓力。

　　保護(hù)您的工藝設(shè)備和晶圓，使其免受納米級顆粒物和氣態(tài)化學(xué)污染物影響

　　康斐爾解決方案在半導(dǎo)體制造環(huán)境中經(jīng)過現(xiàn)場和實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證，包括光刻、蝕刻、擴(kuò)散、金屬化、薄膜、離子注入、量測機(jī)臺以及光罩或晶圓存儲區(qū)域。

　　工藝機(jī)臺空氣過濾器

　　潔凈室空氣過濾器

　　光刻機(jī)預(yù)過濾系統(tǒng)

　　節(jié)能、低釋氣的解決方案，專為廠務(wù)設(shè)施系統(tǒng)而設(shè)計

　　康斐爾的灰塵預(yù)濾器系列產(chǎn)品保證新風(fēng)空調(diào)箱的最低能耗，保護(hù)HEPA過濾器，防止硼釋放。經(jīng)過多年的發(fā)展，粘合劑技術(shù)和濾料化學(xué)性質(zhì)不斷完善;康斐爾HEPA和ULPA過濾器能夠盡可能減少有機(jī)污染物的揮發(fā)(即低揮發(fā)性)。通過用于晶圓切割的排氣處理系統(tǒng)以及用于一般排氣備用系統(tǒng)的氣體凈化機(jī)組，保護(hù)您的環(huán)境免受工藝污染。

　　無硼化纖預(yù)濾器

　　極低能耗的預(yù)濾器

　　低揮發(fā)性的HEPA和ULPA過濾器

　　除塵器和氣體凈化機(jī)組，打造更潔凈的排氣

　　瑞典Camfil過濾器在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用